金屬材料在蝕刻機(jī)里的浸蝕全過(guò)程，關(guān)鍵在于在金屬零件表層產(chǎn)生晶體的分解功效，次之在位錯(cuò)上都產(chǎn)生分解功能，一般來(lái)講，位錯(cuò)要以有別于晶體的分解速率產(chǎn)生融解功效的。

在大部分金屬材料和鋁合金得多分子結(jié)構(gòu)中，每個(gè)結(jié)晶幾乎都能采用分子晶格常數(shù)的所有趨向。而晶體的差異趨向、晶體密度的尺寸及殘?jiān)际菚?huì)和四周的孕媽金屬材料產(chǎn)生外部經(jīng)濟(jì)或超微觀原電池反應(yīng)。因此，針對(duì)金屬材料在蝕刻液中而言，一方面這種原電池反應(yīng)的出現(xiàn)，使金屬表層存在電勢(shì)差，電位差正的地區(qū)獲得暫時(shí)性的維護(hù)，電位差負(fù)的區(qū)域在腐蝕機(jī)里被優(yōu)先選擇刻蝕。另一方面在零件表層具備轉(zhuǎn)變著分子間隔，并且分子間隔比較寬的區(qū)域融解速率快速，一直到表明出不平坦的表層才行。隨后，融解功效會(huì)以似乎是相對(duì)穩(wěn)定的速率鉆削密切堆積原子層，表層的幾何結(jié)構(gòu)也隨之晶體的分解而再次不斷轉(zhuǎn)變。位錯(cuò)里的刻蝕也將進(jìn)一步危害零件表層。在位錯(cuò)上晶格常數(shù)的崎變和聚集的雜物，經(jīng)常造成更為快速地刻蝕功效，進(jìn)而可能會(huì)讓全部晶體遭受凹痕狀刻蝕。晶粒尺寸越低，刻蝕后外表粗糙度越小，這還可以從具體生產(chǎn)過(guò)程中獲得確認(rèn)。在生產(chǎn)過(guò)程中通常都是原材料越勻稱高密度其表層越光滑。

產(chǎn)品工件在蝕刻機(jī)浸蝕環(huán)節(jié)中，怎樣得到表層光滑的效果呢？根據(jù)鑫恒力研究表明，如果是要開(kāi)展紋路刻蝕，就要使這類(lèi)外部經(jīng)濟(jì)部分刻蝕狀況提升。例如操縱適宜的酸值或酸堿度，并添加一些致力于更改刻蝕的行為第二化學(xué)物質(zhì)，使被刻蝕表面展現(xiàn)出所需的不光滑化表層實(shí)際效果。要是在腐蝕機(jī)內(nèi)進(jìn)行有機(jī)化學(xué)鏤空雕花，同樣需要發(fā)揮特長(zhǎng)，提高蝕刻液的蝕刻加工水平，使刻蝕更趨向均勻化，以獲得表層光滑光潔效果。